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等离子抛光机在作业过程中、是要靠电来将抛光盐溶液离化发生等离子、等离子下电场下轰击产品外表、构成端放电、一起伴有化学微腐蚀,物理化学双作用发生的抛光效果。在微观下是要靠电将原来稳定的资料原子核周围的电子通过电场脱离原子核的束缚、构成活跃的离子。此等一切的能量都需要电来供给、并且等离子的发生还需要很高的电场才可以发生。
等离子抛光机操作的关键是要设法得到更大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,等离子抛光机使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。
解决这个矛盾的更好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有更大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。